[实用新型]一种真空镀膜装置

摘要

本实用新型提供一种膜层厚度均匀的真空镀膜装置，包括真空镀膜的腔体、磁钢、靶材、靶罩与基片，所述腔体构造出一立方体空间，所述靶材、靶罩与基片均设置于所述立方体空间内，所述磁钢设置于所述腔体的外壁上，所述靶材设置于所述腔体的内壁上，所述靶罩设置于所靶材上方和侧面，形成一门型，将所述靶材覆盖于所述靶罩内，同时在靶罩的上方设有一开口，所述开口与靶材在腔体上的投影相一致，所述基片设置于所述靶材上方50‑100mm的范围内。在靶罩上设置有挡块，所述挡块外部连接有一旋钮，所述旋钮上设有一把手，所述把手位于真空镀膜腔体外部。在真空镀膜工作条件下，可以灵活调整真空镀膜装置内部挡块结构，进而满足膜层均匀性要求。

主权项

1.一种真空镀膜装置，包括：包括真空镀膜的腔体(4)、磁钢(3)、靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)，所述腔体(4)构造出一立方体空间，所述靶材(2)、靶罩(1)与基片(5)均设置于所述立方体空间内，所述磁钢(3)设置于所述腔体(4)的外壁上，所述靶材(2)设置于所述腔体(4)的内壁上，所述靶罩(1)设置于所靶材(2)上方和侧面，形成一门型，将所述靶材(2)覆盖于所述靶罩(1)内，同时在靶罩(1)的上方设有一开口(11)，所述开口(11)与靶材(2)在腔体(4)上的投影相一致，所述基片(5)设置于所述靶材(2)上方50-100mm的范围内；/n其特征在于，所述真空镀膜装置在靶罩(1)上设置有挡块(6)，所述挡块(6)外部连接有一旋钮(7)，所述旋钮(7)上设有一把手(71)，所述把手(71)位于所述腔体(4)的外侧，所述旋钮(7)上还设有一调拨机构，通过旋转所述旋钮(7)的腔体(4)外部的把手(71)，带动所述调拨机构运动，所述调拨机构调拨挡块(6)在平行于靶面的水平面上来回移动，进而打开或者遮挡部分开口(11)。/n