[发明专利]基板处理装置及支撑销有效
| 申请号： | 201880005312.8 | 申请日： | 2018-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN110100043B | 公开（公告）日： | 2021-09-03 |
| 发明（设计）人： | 佐藤雄亮;清水豪;吉田大介;汤山明;高桥诚 | 申请（专利权）人： | 株式会社爱发科 |
| 主分类号： | C23C14/50 | 分类号： | C23C14/50;C23C14/04;C23C16/04;C23C16/458;H01L21/31;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司： | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人： | 辛雪花;周艳玲 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位置上；和支撑机构，以能够朝向所述掩模按压所述基板的方式支撑所述基板，从而在对基板进行处理时使所述基板与所述掩模紧贴，所述支撑机构设定为能够追随所述基板和所述掩模的变形而调整作用于所述基板的背面的按压力。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种基板处理装置，所述基板处理装置为对基板进行处理的装置，具有：处理室，在腔室内对所述基板的表面进行处理；后背室，与所述处理室相邻，在所述后背室中移动所述基板，并且在所述后背室中支撑所述基板；掩模，配置在所述处理室与所述后背室的边界位置上；和支撑机构，以能够朝向所述掩模按压所述基板的方式支撑所述基板，从而在对基板进行处理时使所述基板与所述掩模紧贴，所述支撑机构设定为能够追随所述基板和所述掩模的变形而调整作用于所述基板的背面的按压力。
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