[发明专利]远程等离子体可流动CVD腔室的方法及设备有效
| 申请号： | 201880009192.9 | 申请日： | 2018-02-13 |
| 公开（公告）号： | CN110249406B | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | Y·马;D·拉杰;M·J·西蒙斯;A·波克雷尔;G·奇可卡诺夫;张轶珍;梁璟梅;J·D·平松二世;D·李;J·C·罗查－阿尔瓦雷斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/44;C23C16/505 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 侯颖媖;张鑫 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本文公开的实施例总的来说关于等离子体处理系统。等离子体处理系统包括处理腔室、腔室陈化系统和远程等离子体清洁系统。处理腔室具有界定处理区域和等离子体场的腔室主体。腔室陈化系统耦接到处理腔室。腔室陈化系统经配置而陈化处理区域和等离子体场。远程等离子体清洁系统与处理腔室连通。远程等离子体清洁系统经配置对处理区域和等离子体场进行清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 远程 等离子体 流动 cvd 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理系统，包括：处理腔室，所述处理腔室具有腔室主体，所述腔室主体界定处理区域和等离子体场；腔室陈化系统，所述腔室陈化系统耦接到所述处理腔室，所述腔室陈化系统经配置以陈化所述处理区域和所述等离子体场；以及远程等离子体清洁系统，所述远程等离子体清洁系统与所述处理腔室连通，所述远程等离子体清洁系统经配置以清洁所述处理区域和所述等离子体场。
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