[发明专利]曝光设备在审
| 申请号： | 201880010064.6 | 申请日： | 2018-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN110268334A | 公开（公告）日： | 2019-09-20 |
| 发明（设计）人： | 金原淳一 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 提供一种曝光设备，包括第一衬底保持器、第二衬底保持器、传感器保持器、投影系统、测量装置和还一测量装置。所述第一衬底保持器被配置成保持衬底。所述第二衬底保持器被配置成保持所述衬底。所述传感器保持器被配置成保持传感器。投影系统被配置成利用曝光束曝光所述衬底。所述测量装置被配置成提供衬底的测量信息。所述还一测量装置被配置成提供该衬底的还一测量信息。所述传感器被配置成测量曝光束和/或投影系统的性质。所述投影系统被配置成利用曝光束使传感器曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 配置 衬底保持器 测量装置 投影系统 曝光 传感器 传感器保持器 曝光设备 测量 | ||
【主权项】：
1.一种曝光设备，包括：第一衬底保持器，被配置成保持衬底；第二衬底保持器，被配置成保持所述衬底；传感器保持器，被配置成保持传感器；投影系统，被配置成利用曝光束曝光所述衬底；测量装置，被配置成提供所述衬底的测量信息；还一测量装置，被配置成提供衬底的还一测量信息，其中所述传感器被配置成测量曝光束和/或投影系统的性质，其中所述投影系统被配置成利用曝光束曝光所述传感器。
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