[发明专利]分离膜结构体的检查方法、分离膜组件的制造方法和分离膜结构体的制造方法有效
申请号: | 201880012747.5 | 申请日: | 2018-02-15 |
公开(公告)号: | CN110430935B | 公开(公告)日: | 2022-04-29 |
发明(设计)人: | 宫原诚;市川真纪子;谷岛健二;萩尾健史 | 申请(专利权)人: | 日本碍子株式会社 |
主分类号: | B01D65/10 | 分类号: | B01D65/10;B01D69/10;B01D69/12;B01D71/02;G01N15/08 |
代理公司: | 北京旭知行专利代理事务所(普通合伙) 11432 | 代理人: | 王轶;郑雪娜 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 分离膜组件(10)的检查方法包括:组装工序,将具有多孔质基材(11)和分离膜(12)的分离膜结构体(1)密封于壳体(2)内;检查工序,对充满于分离膜(12)的第1主面侧的检查用液体进行加压。检查用液体具有如下特性:将分离膜结构体(1)在检查用液体中浸渍60分钟后以150℃进行了24小时干燥的情况下,分离膜的He透过速度降低率为10%以下。 | ||
搜索关键词: | 分离 膜结构 检查 方法 组件 制造 | ||
【主权项】:
1.一种分离膜结构体的检查方法,是具有多孔质基材和分离膜的分离膜结构体的检查方法,包括检查工序,在所述检查工序中,对充满于所述分离膜的第1主面侧的检查用液体进行加压,所述检查用液体具有如下特性:将所述分离膜结构体在所述检查用液体中浸渍60分钟后以150℃干燥了24小时的情况下,所述分离膜的He气体透过速度降低率为10%以下。
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