[发明专利]正性光致抗蚀剂组合物、由其制造的图案和用于制造图案的方法有效
申请号: | 201880018047.7 | 申请日: | 2018-07-25 |
公开(公告)号: | CN110462516B | 公开(公告)日: | 2023-01-17 |
发明(设计)人: | 林敏映;李泰燮;金智慧 | 申请(专利权)人: | 株式会社LG化学 |
主分类号: | G03F7/039 | 分类号: | G03F7/039;G03F7/033;G03F7/027;G03F7/004;G03F7/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵丹;蔡胜有 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供了具有优异的储存稳定性、灵敏度、显影特性、耐镀覆性和耐热性的正性光致抗蚀剂组合物。更具体地,将呈具有与所述光致抗蚀剂组合物中包含的树脂相同的重复单元结构的低聚物的形式的特定溶解抑制剂应用于所述组合物。 | ||
搜索关键词: | 正性光致抗蚀剂 组合 制造 图案 用于 方法 | ||
【主权项】:
1.一种正性光致抗蚀剂组合物,包含:/n粘合剂树脂,所述粘合剂树脂包含其中重复单元中引入有碱溶性官能团的聚合物树脂、和基于丙烯酸酯的树脂;/n低聚物化合物,在所述低聚物化合物中官能团中引入有选自缩醛、叔丁氧基羰基和叔丁基酯中的至少一个保护基团,以及所述低聚物化合物包含与所述聚合物树脂或所述基于丙烯酸酯的树脂相同的重复单元;以及/n光致产酸剂。/n
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