[发明专利]光照射装置有效
| 申请号： | 201880019554.2 | 申请日： | 2018-04-10 |
| 公开（公告）号： | CN110462503B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 新井敏成 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/13 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 佟胜男 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光照射装置，该光照射装置能够使原本应形成曝光图案的位置与实际曝光的曝光图案的位置一致。在与第一方向(x方向)大致正交的第二方向(y方向)上，在掩模(32)上形成的透光区域(32a)与光轴(Ax)间的距离为由通过透光区域(32a)的光形成在基板(W)上的曝光图案与光轴(Ax)间的距离的A(A为1以上的数值)倍。 | ||
| 搜索关键词： | 照射 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光照射装置，其沿基板的第一方向以带状形成曝光图案，所述光照射装置的特征在于，包括：/n光源，其射出光；/n掩模，其在与光轴不交叉的位置形成有沿所述第一方向的带状的透光区域；/n准直机构，其使从所述光源射出的光成为大致平行光并向所述掩模照射；以及/n复眼透镜，其配置在所述光源与所述准直机构之间，使向所述掩模照射的光的强度分布均匀，/n在与所述第一方向大致正交的第二方向上，所述透光区域与所述光轴间的距离为由通过所述透光区域的光形成在所述基板上的曝光图案与所述光轴间的距离的A倍，其中，A为1以上的数值。/n
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