[发明专利]洗净水供给装置有效
| 申请号： | 201880024524.0 | 申请日： | 2018-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN110494959B | 公开（公告）日： | 2022-09-30 |
| 发明（设计）人： | 森田博志;颜畅子 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | H01L21/304 | 分类号： | H01L21/304 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 洗净水供给装置，其具有：超纯水线路(1)，其以定量流通超纯水；制造部(2)，其在该超纯水线路定量添加溶质来制造洗净水；洗净水的贮留槽(4)；洗净机(5A～5N)，其由贮留槽(4)供给洗净水；及，控制器(2a)，其以贮留槽(4)内的水位成为预定范围的方式控制洗净水制造部(2)。 | ||
| 搜索关键词： | 洗净 供给 装置 | ||
【主权项】：
1.一种洗净水供给装置，其具有在超纯水中添加pH调整剂及/或氧化还原电位调整剂来制造一定浓度的洗净水的洗净水制造部，其特征在于，/n其包括：/n贮留来自洗净水制造部的洗净水的贮留槽；及/n将该贮留槽内的洗净水供给至洗净机的供给机构。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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