[发明专利]在EUV光谱区域中操作的光学物镜在审
| 申请号： | 201880026044.8 | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN110753882A | 公开（公告）日： | 2020-02-04 |
| 发明（设计）人： | 丹尼尔·基恩·史密斯;大卫·M·威尔森 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B17/06;G21K1/06 |
| 代理公司： | 31100 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 胡林岭 |
| 地址： | 日本东京都*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种反射系统具有参考轴以及第一反射镜、第二反射镜及第三反射镜。所述第一反射镜含有承载实质上一维图案的图案源。所述第二反射镜及所述第三反射镜的组合被配置成：在极紫外线光中利用仅有的两束光以N>1的减缩因数形成图案的光学图像，所述仅有的两束光因以入射于第一反射镜上的光辐照所述第一反射镜而起源于所述第一反射镜处。一种采用所述反射系统的曝光设备以及利用所述曝光设备制造装置的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 反射镜 反射系统 曝光设备 图案 光学图像 极紫外线 制造装置 因数 参考轴 光辐照 图案源 组合被 减缩 入射 承载 起源 配置 | ||
【主权项】：
1.一种光学成像系统，具有光轴且包括：/n凸面反射镜单元，在其中界定第一开口；以及/n凹面反射镜单元，在其中界定第二开口，/n所述系统被配置成/n在凸面反射镜单元的表面处接收经由所述第二开口以两束辐射的形式被递送至所述系统的光学辐射，且/n在所述光学辐射已自所述凹面反射镜单元的表面反射之后且在所述光学辐射已穿过所述第一开口之后，通过以所述光学辐射辐照图像平面而形成物体的图像。/n
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