[发明专利]涂敷处理装置、涂敷处理方法和光学膜形成装置有效
| 申请号： | 201880026835.0 | 申请日： | 2018-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN110573264B | 公开（公告）日： | 2022-04-26 |
| 发明（设计）人： | 池本大辅 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05C11/10;B05C13/02;B05D1/26;B05D5/06;G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 涂敷处理装置(10)包括：保持基片并使其在水平的一个方向移动的基片移动部(12、13)；长条状的涂敷喷嘴(14)，其在与基片移动部的移动方向正交的方向延伸，对基片移动部所保持的基片排出涂敷液；使涂敷喷嘴在涂敷喷嘴的延伸方向移动的涂敷喷嘴移动部(16)；和控制部(18)，其通过控制基片移动部和涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制相对于基片移动部所保持的基片的涂敷方向。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 装置 方法 光学 形成 | ||
【主权项】：
1.一种在基片上涂敷含有光学材料的涂敷液的涂敷处理装置，其特征在于，包括：/n基片移动部，其能够保持所述基片并使其在水平的一个方向上移动；/n长条状的涂敷喷嘴，其在与所述基片移动部的移动方向正交的方向上延伸，对所述基片移动部所保持的所述基片排出所述涂敷液；/n涂敷喷嘴移动部，其能够使所述涂敷喷嘴在所述涂敷喷嘴的延伸方向上移动；和/n控制部，其通过控制所述基片移动部和所述涂敷喷嘴移动部的移动速度，来控制对所述基片移动部所保持的所述基片进行涂敷的涂敷方向。/n
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