[发明专利]使用具备吸附层的研磨垫的研磨方法在审

专利信息
申请号: 201880028532.2 申请日: 2018-06-01
公开(公告)号: CN110573300A 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 矢岛利康;二宫大辅 申请(专利权)人: 丸石产业株式会社
主分类号: B24B37/22 分类号: B24B37/22;B32B27/00;B32B27/12;H01L21/304
代理公司: 72003 隆天知识产权代理有限公司 代理人: 李慧慧;向勇
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明是关于一种研磨方法,该研磨方法适用于具备既定的吸附层的研磨垫。该研磨垫是具备包含聚硅氧等的吸附层,该聚硅氧是包含仅在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷。在本发明中,将研磨垫固定于固定盘后,在对所述研磨垫一边加压被研磨物一边使其滑动而进行研磨时,将固定盘的表面粗糙度(Ra)设为0.01至0.7μm,其后,将研磨垫的吸附层吸附固定于固定盘而进行研磨作业。通过如此的方式调整固定盘的表面粗糙度,可抑制在被研磨物表面产生难以预测的伤痕或粗糙。此外,固定盘表面粗糙度的调整方法较优选是将所述表面粗糙度的膜接合于固定盘的表面。
搜索关键词: 固定盘 研磨垫 表面粗糙度 研磨 吸附层 被研磨物 聚硅氧 直链状聚有机硅氧烷 方式调整 吸附固定 接合 乙烯基 滑动 优选 加压 粗糙 伤痕 预测
【主权项】:
1.一种研磨方法,是将研磨垫固定于固定盘后,对所述研磨垫一边加压被研磨物一边使其滑动而进行研磨,其中,/n所述研磨垫包含用以吸附并固定于所述固定盘的吸附层、及用以研磨所述被研磨物的研磨层;/n所述吸附层包含使选自下列至少1种的聚硅氧交联而成的组合物:包含仅在两末端具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷的聚硅氧、包含在两末端及侧链具有乙烯基的直链状聚有机硅氧烷的聚硅氧、包含仅在末端具有乙烯基的分支状聚有机硅氧烷的聚硅氧、及包含在末端及侧链具有乙烯基的分支状聚有机硅氧烷的聚硅氧;/n将所述固定盘的表面粗糙度(Ra)设为0.01至0.7μm之后,将所述研磨垫的吸附层吸附固定于所述固定盘。/n
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