[发明专利]用于光学光刻系统的监视系统有效
| 申请号： | 201880033471.9 | 申请日： | 2018-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN110651228B | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | A·多罗班图;M·R·格雷厄姆;J·J·索内斯;K·M·奥布里恩 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03B27/54;G03C5/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董典红 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 监视光学光刻系统。从光学光刻系统接收信息；访问规则，该规则与光学光刻系统中的事件和时间量中的一项或多项相关联；基于访问的规则标识存储在模块库中的模块；使用所标识的模块和从光学光刻系统接收的信息，确定光学光刻系统中是否存在特定条件；并且如果存在特定条件，则基于特定条件的一个或多个特性来生成命令信号，并将命令信号提供给光学光刻系统的光源。该命令信号基于所确定的特定条件，并且该命令信号足以改变光源的一个或多个操作参数。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 光刻 系统 监视 | ||
【主权项】：
1.一种系统，包括：/n光学光刻系统，所述光学光刻系统包括：/n光源，被配置为产生光学光束，所述光源包括一个或多个控制系统，所述一个或多个控制系统中的每一个控制系统被配置为调整所述光源的操作参数；以及/n光刻设备，所述光刻设备包括：/n投影光学系统，所述投影光学系统被配置为接收来自所述光源的所述光学光束并产生曝光光束；以及/n晶片区域，所述晶片区域被配置为接收晶片和所述曝光光束；以及/n监视系统，与所述光学光刻系统耦合，所述监视系统被配置为：/n访问至少一个规则，/n基于所访问的规则来标识来自模块库的模块，/n使用所标识的模块和来自所述光学光刻系统的信息来确定所述光学光刻系统中是否存在特定条件；以及/n如果存在所述特定条件，则向所述光学光刻系统提供命令信号，所述命令信号基于所确定的特定条件，并且足以致使所述控制系统中的一个或多个控制系统调整所述光源的一个或多个操作参数，其中/n所述光源的所述一个或多个操作参数中的每一个操作参数指定所述光源的行为，并且调整所述光源的一个或多个操作参数改变所述光源的一个或多个行为。/n
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