[发明专利]不含六价铬的蚀刻锰真空蒸发系统在审
申请号: | 201880036957.8 | 申请日: | 2018-07-10 |
公开(公告)号: | CN110709453A | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 马克·鲍曼;丹尼尔·莱西;格里·沃格尔波尔 | 申请(专利权)人: | SRG全球有限公司 |
主分类号: | C08J7/12 | 分类号: | C08J7/12;C23C18/24;C09K13/04 |
代理公司: | 11021 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 李新红;王旭 |
地址: | 美国密*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明公开了用于从基于锰的蚀刻剂浴中去除水的方法和系统。通过将基于锰的蚀刻剂浴的一部分转移到真空蒸发器以将基于锰的蚀刻剂浴的浓缩部分进行处理并转移回基于锰的蚀刻剂浴,将水从基于锰的蚀刻剂浴中去除。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻剂浴 去除 真空蒸发器 浓缩 | ||
【主权项】:
1.一种用于从锰离子源中去除水的方法,所述方法包括:/n将所述锰离子源的至少一部分引导通过导管,其中所述导管包括用于过滤不溶解的颗粒的过滤器;/n用真空蒸发器浓缩所述锰离子源的所述部分;/n将浓缩部分返回到基于锰的蚀刻剂浴。/n
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