[发明专利]膜处理方法及膜制造方法有效
| 申请号： | 201880043421.9 | 申请日： | 2018-06-04 |
| 公开（公告）号： | CN110832108B | 公开（公告）日： | 2023-03-31 |
| 发明（设计）人： | 冈村贤吾;高原健;早川孝宏;花见道广;谷卓行 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/02;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 常海涛;孙微 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开一种由膜处理装置(1)进行的处理方法，该膜处理装置(1)具备：第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)、以及交流电源(5)，第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)分别具有形成磁场的磁体(3b)、(4b)，交流电源(5)能够交替地切换第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)的极性。在该处理方法中，通过由交流电源(5)供给的高频功率，在交替地切换第1放电电极单元(3)和第2放电电极单元(4)的极性的同时，产生等离子体(P)，从而进行对膜(F)的预定表面处理。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 方法 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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