[发明专利]具有可移动的遮蔽件载体的设备在审
申请号: | 201880046285.9 | 申请日: | 2018-07-30 |
公开(公告)号: | CN110972483A | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 塞巴斯蒂安·巩特尔·臧;安德烈亚斯·索尔;马蒂亚斯·克雷布斯;安娜贝儿·霍夫曼;杰里·西格蒙德 | 申请(专利权)人: | 应用材料公司 |
主分类号: | C23C14/12 | 分类号: | C23C14/12;C23C14/04;C23C14/50;C23C14/56;H01L51/00;H01L21/677 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;赵静 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 描述一种用于处理基板的真空处理设备。所述真空处理设备包括:真空腔室;和沉积源,所述沉积源设置在所述真空腔室中。所述设备进一步包括第一轨道布置,所述第一轨道布置具有适于输送基板的第一输送轨道和适于输送掩模的第二输送轨道。此外,所述设备包括第三输送轨道,所述第三输送轨道适于在所述沉积源与所述掩模之间输送掩模遮蔽件,以避免所述掩模的污染。所述第三输送轨道适于将所述掩模遮蔽件输送到真空腔室外,所以拆下及清洁受到来自沉积源的材料污染的掩模遮蔽件是可行的。 | ||
搜索关键词: | 具有 移动 遮蔽 载体 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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