[发明专利]用于粒子抑制的气体注射系统有效
申请号: | 201880049630.4 | 申请日: | 2018-07-18 |
公开(公告)号: | CN110945437B | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | M·A·基耶达;J·布林克特;黄仰山;K·巴尔 | 申请(专利权)人: | ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 张启程 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计,所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面,提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动,并且所述第二结构包括第二表面(417),所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414),所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口,所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。 | ||
搜索关键词: | 用于 粒子 抑制 气体 注射 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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