[发明专利]用于粒子抑制的气体注射系统有效

专利信息
申请号: 201880049630.4 申请日: 2018-07-18
公开(公告)号: CN110945437B 公开(公告)日: 2022-05-27
发明(设计)人: M·A·基耶达;J·布林克特;黄仰山;K·巴尔 申请(专利权)人: ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 张启程
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计,所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面,提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动,并且所述第二结构包括第二表面(417),所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414),所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口,所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。
搜索关键词: 用于 粒子 抑制 气体 注射 系统
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司,未经ASML控股股份有限公司;ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880049630.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top