[发明专利]立体光刻设备、光发射控制方法和程序有效
| 申请号： | 201880051054.7 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN111065509B | 公开（公告）日： | 2023-02-17 |
| 发明（设计）人： | 御友重吾;佐藤圭 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | B29C64/393 | 分类号： | B29C64/393;B29C64/124;B29C64/277;B33Y30/00;B33Y50/02 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据本发明的实施方式的立体光刻设备设置有光源单元、光检测单元和控制单元。光源单元包括发射用于固化光固化树脂的光的多个发光元件。光检测单元检测从光源单元发射的光。控制单元基于由光检测单元检测到的光形成光量分布曲线，所述光量分布曲线示出光的光亮分布，并且根据光量分布曲线控制多个发光元件的光发射。 | ||
| 搜索关键词： | 立体 光刻 设备 发射 控制 方法 程序 | ||
【主权项】：
暂无信息
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