[发明专利]具有掩模对准器的沉积设备、用于遮蔽基板的掩模布置和用于遮蔽基板的方法在审
| 申请号： | 201880052415.X | 申请日： | 2018-08-06 |
| 公开（公告）号： | CN111010877A | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 马蒂亚斯·海曼斯 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;H01L21/68;H01L51/56;C23C14/54;H01L21/677;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容提供一种沉积设备(100)，这种沉积设备用于沉积一个或多个层于基板(10)上。沉积设备包括：真空腔室(60)；输送系统(50)，用于输送掩模载体(23)，掩模载体配置为用于支撑掩模框架(21)，掩模框架具有掩模(22)，掩模安装于掩模框架(21)；和对准系统(40)，包括多个第一对准装置(41)，至少部分地设置于真空腔室(60)中，多个第一对准装置(41)接触掩模载体(23)或掩模支撑件；和多个第二对准装置(42)，至少部分地设置于真空腔室(60)中，多个第二对准装置(42)接触掩模框架(21)。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 对准 沉积 设备 用于 遮蔽 布置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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