[发明专利]用于等离子体处理设备的冷却聚焦环有效
| 申请号： | 201880060196.X | 申请日： | 2018-08-14 |
| 公开（公告）号： | CN111095476B | 公开（公告）日： | 2022-08-12 |
| 发明（设计）人： | 马丁·L·朱克 | 申请（专利权）人： | 玛特森技术公司;北京屹唐半导体科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京易光知识产权代理有限公司 11596 | 代理人： | 崔晓光 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在用于处理衬底的等离子体处理设备中使用的基座组件，所述基座组件包括基板。基座组件还可以包括配置成支撑衬底的圆盘。基座组件还可以包括相对于圆盘布置的聚焦环，使得当基板定位在圆盘上时，聚焦环的至少一部分至少部分地围绕衬底的周边。另外，聚焦环可以与圆盘间隔开，从而在其间限定间隙。基座组件还可以包括与圆盘间隔开的导热构件。导热构件可以与由内绝缘环围绕的聚焦环热连通，并且配置成与聚焦环和基板热连通。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 设备 冷却 聚焦 | ||
【主权项】：
暂无信息
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