[发明专利]pH、氧化还原电位调节水的制造装置在审
| 申请号： | 201880060253.4 | 申请日： | 2018-03-20 |
| 公开（公告）号： | CN111132939A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | 颜畅子 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C02F1/66 | 分类号： | C02F1/66;C02F1/20;C02F1/58;H01L21/304 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 陈曦;向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | pH及氧化还原电位调节水的制造装置(1)在超纯水(W)的供给线(2)设置有铂族金属负载树脂柱(3)，在其后段配备了pH调节剂注入装置(4A)和根据需要而设的氧化还原电位调节剂注入装置(4B)。在该装置(4A)、(4B)的后段，膜式脱气装置(6)连通着排出线(9)。在该排出线(9)的中途设有pH计(10A)和ORP计(10B)，上述pH计(10A)及ORP计(10B)连接着控制装置(11)。然后，根据pH计(10A)及ORP计(10B)的测量结果，控制pH调节剂注入装置4A和氧化还原电位调节剂注入装置(4B)的注入量。根据所述pH及氧化还原电位调节水的制造装置，能通过准确地调节pH及氧化还原电位从而使有钨等铬族元素暴露的半导体晶片的带电、腐蚀溶解的程度最小化。 | ||
| 搜索关键词： | ph 氧化 还原 电位 调节 制造 装置 | ||
【主权项】：
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