[发明专利]辐射源在审
| 申请号： | 201880061395.2 | 申请日： | 2018-08-16 |
| 公开（公告）号： | CN111133840A | 公开（公告）日： | 2020-05-08 |
| 发明（设计）人： | R·L·唐克;H-K·尼恩惠斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种辐射源包括：发射器，用于朝向等离子体形成区发射燃料目标；激光系统，用于用激光束撞击目标以产生等离子体；收集器，用于收集由等离子体发射的辐射；成像系统，配置成捕获目标的图像；在所述收集器处并在成像系统的视场内的一个或更多个标识；和控制器。控制器接收表示图像的数据；和依赖于所述数据控制辐射源的操作。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射源 | ||
【主权项】：
暂无信息
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