[发明专利]检查装置的光学布置有效
| 申请号： | 201880063039.4 | 申请日： | 2018-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN111164514B | 公开（公告）日： | 2023-01-17 |
| 发明（设计）人： | P·V·凯尔卡;J·L·克鲁泽 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 傅远 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种检查装置，包括光学系统，其被配置为向待测表面提供辐射的束并且从该表面接收重定向的辐射；以及检测系统，其被配置为测量重定向的辐射，其中光学系统包括用于处理辐射的光学元件，该光学元件包括被配置为产生辐射的减小的色偏的Mac Neille型多层偏振涂层。 | ||
| 搜索关键词： | 检查 装置 光学 布置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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