[发明专利]关闭机构真空腔室隔离装置和子系统有效

专利信息
申请号: 201880063210.1 申请日: 2018-09-28
公开(公告)号: CN111164730B 公开(公告)日: 2023-08-15
发明(设计)人: T·A·恩古耶 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 侯颖媖;张鑫
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 本公开总体涉及一种用于处理系统中的隔离装置。所述隔离装置包括主体,所述主体具有从中穿过而形成的流孔。在一个实施方式中,所述隔离装置设置在远程等离子体源与工艺腔室之间。关闭机构可枢转地设置在所述主体内。所述关闭机构可以被致动以启用或禁用在所述远程等离子体源与所述工艺腔室之间的流体连通。在一个实施方式中,所述关闭机构包括轴和耦接到所述轴的密封板。横臂耦接到与所述密封板相对的所述轴。所述横臂被配置为选择性地旋转所述关闭机构的所述轴和所述密封板。
搜索关键词: 关闭 机构 空腔 隔离 装置 子系统
【主权项】:
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