[发明专利]电机、双行程平台和光刻设备在审
| 申请号： | 201880067503.7 | 申请日： | 2018-09-05 |
| 公开（公告）号： | CN111226173A | 公开（公告）日： | 2020-06-02 |
| 发明（设计）人： | J·J·博尔德;P·M·S·M·海杰曼斯;J·范杜文博德;R·H·S·弗伦肯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H02K41/03;H02K41/035;H02P6/00;H02K3/28;G05B19/416 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及电机(LD)，包括：静止部(STP)，静止部(STP)包括一行线圈组件(UCA、LCA)，线圈组件具有多个相位；可移动部(MP)，其包括一行永磁体(UPM、LPM)，其中一行线圈组件具有第一长度、并且一行永磁体具有第二长度，其中第二长度小于第一长度，其中线圈组件被布置为与线圈组件对准的永磁体相互作用来生成驱动力；比较器，其将表示可移动部实际位置的位置测量信号与表示可移动部期望位置的设定点信号进行比较，来提供误差信号；运动反馈控制器，被配置为基于误差信号来提供控制信号；至少一个电流放大器，被配置为基于控制信号向线圈组件提供致动信号，其中该电机包括前馈装置，其中前馈装置被配置为基于设定点信号或从其导出的信号来提供电流放大器前馈信号，其中电流放大器前馈信号被提供给至少一个电流放大器，以补偿由于一个或多个线圈组件仅与永磁体部分地对准而引起的在一个或多个线圈组件上的不平衡的反电动势。 | ||
| 搜索关键词： | 电机 双行 平台 光刻 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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