[发明专利]曝光装置和用于制造物品的方法有效
| 申请号： | 201880068453.4 | 申请日： | 2018-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN111247485B | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 河野道生 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B7/28;G02B7/32;G02B7/40 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 汪晶晶 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置，被配置为包括：投影光学系统(PO)，用于将用于在基板上形成图案的曝光光束投影到基板(PL)上；遮光构件(PH1)，包括用于曝光光束通过的开口；聚焦检测单元，用于检测表示曝光光束的焦点位置与基板之间的未对准的散焦量；以及控制单元(CTR)，用于基于聚焦检测单元进行检测的结果在投影光学系统(PO)的光轴方向上移动遮光构件(PH1)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 用于 制造 物品 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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