[发明专利]定位装置、光刻设备、补偿平衡质量块转矩的方法和器件制造方法在审
| 申请号： | 201880085060.4 | 申请日： | 2018-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN111566565A | 公开（公告）日： | 2020-08-21 |
| 发明（设计）人： | W·F·J·西蒙斯;D·布拉卡玛;H·巴特勒;H·H·M·考克西;R·W·A·H·理纳尔斯;S·C·Q·利布雷尔;M·范杜伊霍温;M·W·J·E·威吉克曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/68 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王璐璐 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种定位系统，包括：第一致动器，在可移动体上施加致动力，所述第一致动器耦接至平衡质量块，所述平衡质量块被配置为吸收所述致动力所产生的反作用力，所述致动力提供所述可移动体的加速度，所述反作用力提供所述平衡质量块的加速度，其中，由所述可移动体的加速度产生的力与由所述平衡质量块的加速度产生的力一起产生平衡质量块转矩；平衡质量块支撑件，将所述平衡质量块支撑到框架上，所述平衡质量块支撑件在支撑位置处接合所述框架；和转矩补偿器；其中所述转矩补偿器施加补偿力以补偿所述平衡质量块转矩，和其中所述转矩补偿器在所述支撑位置处将所述补偿力施加到所述框架上。 | ||
| 搜索关键词： | 定位 装置 光刻 设备 补偿 平衡 质量 转矩 方法 器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司，未经ASML荷兰有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201880085060.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
