[发明专利]光刻设备、操作方法和器件制造方法在审
| 申请号： | 201880086925.9 | 申请日： | 2018-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN111615668A | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | G·G·A·德格西姆 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H02K41/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王静 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻设备，所述光刻设备包括：致动系统，所述致动系统被用于定位物体；控制单元(CU)，所述控制单元用于控制所述致动系统；以及冷却系统，所述冷却系统用于冷却所述致动系统，其中所述致动系统包括线圈组件(CA)，所述线圈组件包括一个或更多个线圈(CO)作为产生力的构件，其中所述冷却系统包括与所述线圈组件相互作用以用于冷却所述线圈组件的冷却元件(CE)，并且其中所述控制单元被配置成控制所述一个或更多个线圈的温度，以将循环应力的量值保持在预定值以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 操作方法 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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