[发明专利]质谱分析装置以及质谱分析装置的质量校正方法在审
| 申请号： | 201880088469.1 | 申请日： | 2018-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN111684565A | 公开（公告）日： | 2020-09-18 |
| 发明（设计）人： | 池上将弘 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | H01J49/06 | 分类号： | H01J49/06;G01N27/62;H01J49/40 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 源自基质的峰信息获取部(31)基于对仅基质的试样进行分析得到的结果，来制作汇总了源自基质的各种离子及其理论上的m/z值的峰列表，并使该峰列表存储在源自基质的峰信息存储部(32)中。如果得到目标试样的实测质谱，则质量校正用基准峰检测部(33)利用与在分析中使用的基质对应的峰列表，来鉴定在实测质谱中出现的源自基质的离子峰。质量校正信息计算部(35)根据鉴定出的峰的实测的m/z值和理论上的m/z值来求出质量校正信息，质量校正处理部(37)利用质量校正信息对实测质谱上的源自目标化合物的峰的m/z值进行校正。由此，即使在不使用标准物质或者无法以足够的强度观测源自标准物质的离子的情况下，也能够进行准确的质量校正。 | ||
| 搜索关键词： | 谱分析 装置 以及 质量 校正 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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