[发明专利]多配置数字光刻系统在审
| 申请号： | 201880090226.1 | 申请日： | 2018-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111771165A | 公开（公告）日： | 2020-10-13 |
| 发明（设计）人： | 赖建华;陈清昌;郭世豪;杨旭辉;王秀珍;刘易生;高家鸿 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式总体提供一种数字光刻系统，所述数字光刻系统可处理大面积基板以及诸如晶片的半导体器件基板两者。大面积基板和半导体器件基板两者可在同一系统中被同时处理。另外地，所述系统可适应不同水平的曝光，以在所述基板上方形成特征。例如，所述系统可适应非常精确的特征图案化以及不太精确的特征图案化。不同曝光可在同一腔室中同时发生。因此，所述系统能够在同时处理所述半导体器件基板和所述大面积基板两者的同时，还同时适应非常精确的特征图案化和不太精确的特征图案化。 | ||
| 搜索关键词： | 配置 数字 光刻 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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