[发明专利]电阻测量装置、膜制造装置以及导电性膜的制造方法有效
| 申请号： | 201880091382.X | 申请日： | 2018-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN111919126B | 公开（公告）日： | 2022-07-19 |
| 发明（设计）人： | 森光大树 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G01R27/02 | 分类号： | G01R27/02;C23C14/34;C23C14/54;C23C14/56;G01R35/00 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;张会华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 电阻测量装置为测量在一方向上较长的导电性膜的薄层电阻的装置，其特征在于，具有：探测单元，其与导电性膜相对地配置；扫描单元，其使探测单元跨导电性膜的输送区域和非输送区域这两个区域地沿与一方向交叉的交叉方向扫描；以及运算单元，其基于由探测单元测量的电压来计算导电性膜的薄层电阻，运算单元具有存储在非输送区域测量出的参照电压的存储器，基于参照电压来校正通过探测单元在输送区域沿交叉方向扫描而测量的实际电压。 | ||
| 搜索关键词： | 电阻 测量 装置 制造 以及 导电性 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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