[发明专利]成膜装置有效
| 申请号： | 201880093587.1 | 申请日： | 2018-06-08 |
| 公开（公告）号： | CN112135924B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 织田容征 | 申请（专利权）人： | 东芝三菱电机产业系统株式会社 |
| 主分类号： | C23C16/46 | 分类号： | C23C16/46;B05D1/26 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘英华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种能够不降低成膜品质、成膜速度地、以低成本在基板上形成薄膜的成膜装置。而且，在本发明中，红外光照射器(2)配置于下部容器(62)内的从传送带(53)分离的位置。红外光照射器(2)从多个红外光灯(22)朝向上方照射红外光，执行对载置于带(52)的上表面的多个基板(10)的加热处理。在成膜室(6A)内，通过同时执行基于红外光照射器(2)的红外光照射的加热处理和基于薄膜形成喷嘴(1)的雾喷射处理，从而在载置于带(52)的上表面的基板(10)上形成薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
