[发明专利]光刻系统的维护管理方法、维护管理装置和计算机可读介质在审
| 申请号： | 201880095046.2 | 申请日： | 2018-08-08 |
| 公开（公告）号： | CN112384859A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 阿部邦彦;峰岸裕司;若林理 | 申请（专利权）人： | 极光先进雷射株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 于英慧;崔成哲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的一个观点的光刻系统的维护管理方法包含：按照每个构成光刻系统的1组单位的装置组即光刻单元整理工作信息并进行保存；整理每个光刻单元的与消耗品有关的维护信息并进行保存；根据每个光刻单元的工作信息和与消耗品有关的维护信息计算每个光刻单元的消耗品的标准维护时期；根据标准维护时期、停工时间的信息、每个光刻单元的或每个生产线的停工时间导致的损失成本信息，生成每个光刻单元的或每个生产线的维护调度计划；以及输出维护调度计划的生成结果。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 系统 维护 管理 方法 装置 计算机 可读 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
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