[发明专利]使用正向参数校正和增强的逆向工程的涂布控制在审
| 申请号： | 201880098099.X | 申请日： | 2018-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN112752865A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 马库斯·K·提尔斯科;乔治·J·欧肯法斯;马吕斯·格里戈尼斯;安德鲁·克拉克;彭东工;夏银翔;袁照;埃里克·尼班克;尼尔·平克顿 | 申请（专利权）人： | 唯亚威通讯技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 张瑞;杨明钊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种设备(300)可以包括一个或更多个存储器(330)和一个或更多个处理器(320)，该一个或更多个处理器通信地耦合到一个或更多个存储器(330)，以接收设计信息，其中设计信息标识在一次或更多次运行期间生成的光学元件的一组层的期望值；接收或获得标识关于一次或更多次运行的参数和与一次或更多次运行或光学元件相关的观察值之间的关系的历史信息；基于历史信息来确定关于一次或更多次运行的层信息，其中层信息标识关于一组层的实现期望值的运行参数；以及使得一次或更多次运行基于层信息被执行。 | ||
| 搜索关键词： | 使用 正向 参数 校正 增强 逆向 工程 布控 | ||
【主权项】：
暂无信息
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