[发明专利]用于ICPMS基质偏移校准的系统和方法在审
| 申请号： | 201910002140.5 | 申请日： | 2019-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN110034006A | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | D·R·维德林;K·W·尤尔迈耶;M·P·菲尔德;J·S·李 | 申请（专利权）人： | 基础科学公司 |
| 主分类号： | H01J49/26 | 分类号： | H01J49/26;H01J49/10;H01J49/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 刘瑜;王英 |
| 地址： | 美国内布*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 描述了用于校准用于分析连续的多个样本基质的分析仪器的系统和方法。系统实施例可以包括但不限于：样本分析设备，其被配置为从多个远程采样系统接收多个样本，以及确定在多个样本中的每个样本中包含的感兴趣的一个或多个物质的强度；以及控制器，其被配置为：基于通过样本分析设备进行的、对具有第一样本基质的第一标准溶液的分析，来生成主校准曲线；以及基于通过样本分析设备进行的、对具有第二样本基质的第二标准溶液的分析，来生成至少一个次校准曲线，控制器被配置为根据基质校正因子，将至少一个次校准曲线与主校准曲线进行关联。 | ||
| 搜索关键词： | 校准曲线 样本分析设备 样本基质 样本 标准溶液 控制器 基质 配置 远程采样系统 方法描述 分析仪器 偏移校准 系统实施 校正因子 分析 校准 关联 | ||
【主权项】：
1.一种用于校准电感耦合等离子体(ICP)分析仪器的系统，包括：样本分析设备，其被配置为从远程采样系统接收样本以及确定在接收的样本中的第一样本基质中的感兴趣的化学物质的浓度；以及控制器，其可操作地耦合到所述样本分析设备并且被配置为：基于由所述样本分析设备进行的、对在第二样本基质中的不同浓度的感兴趣的化学物质的分析，来生成主校准曲线，基于由所述样本分析设备进行的、对在第一样本基质中的不同浓度的感兴趣的化学物质的分析，来生成次校准曲线，以及确定用于将所述次校准曲线与所述主校准曲线相关联的基质校正因子。
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