[发明专利]显示基板的制作方法及显示基板、显示装置有效
申请号: | 201910002690.7 | 申请日: | 2019-01-02 |
公开(公告)号: | CN109728052B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 胡春静 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L41/08;H01L41/09;H01L21/77 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 胡萌 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种显示基板的制造方法及显示基板、显示装置,涉及显示技术领域,以解决由于成膜厚度不均匀所造成的发光不均匀,及避免后续制作过程中阴极层断裂的问题。其中制造方法包括:在衬底基板上形成像素界定层,像素界定层的材料包括电致变形材料,像素界定层包括阻挡坝,阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角≤90°;极化阻挡坝;向阻挡坝施加与极化方向相同的电场,使阻挡坝的侧面中部鼓起,阻挡坝的侧面靠近衬底基板的区域与阻挡坝的底面之间的夹角>90°;在子像素有效显示区域内形成子像素;向阻挡坝施加与极化方向相反的电场,使阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。上述制造方法应用于诸如有机发光二极管显示装置制作中。 | ||
搜索关键词: | 显示 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在衬底基板上形成像素界定层,所述像素界定层的材料包括电致变形材料,所述像素界定层包括用于界定出子像素有效显示区域的阻挡坝,所述阻挡坝的侧面与底面所呈的夹角小于或等于90°;极化所述阻挡坝,所述阻挡坝的极化方向由所述阻挡坝的底面指向所述阻挡坝的顶面或者由所述阻挡坝的顶面指向所述阻挡坝的底面;向所述阻挡坝施加与所述极化方向相同的电场,使所述阻挡坝的侧面中部鼓起,所述阻挡坝的侧面靠近所述衬底基板的区域与所述阻挡坝的底面之间的夹角大于90°;在所述子像素有效显示区域内形成子像素;使所述阻挡坝的侧面中部的鼓起回缩。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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