[发明专利]测量方法、装置和存储介质在审

专利信息
申请号: 201910010958.1 申请日: 2019-01-07
公开(公告)号: CN109612394A 公开(公告)日: 2019-04-12
发明(设计)人: 周建忠 申请(专利权)人: 成都中电熊猫显示科技有限公司
主分类号: G01B11/02 分类号: G01B11/02;G01B11/06;G02F1/13
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 荣甜甜;刘芳
地址: 610200 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 发明提供一种测量方法、装置和存储介质,该方法包括:根据每个类型的彩膜基板对应的测量参数,对每个类型的彩膜基板中的间隔带的标准片进行测量,获取每个类型的彩膜基板的间隔带的标准片的第一高度和第一宽度;根据待测量彩膜基板对应的测量参数,对待测量彩膜基板中的间隔带的宽度和高度进行测量,获取待测量彩膜基板中的间隔带的第二高度和第二宽度;根据第一高度、第一宽度、第二高度和第二宽度,获取待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果。本发明提供的测量方法能够在一个标准片上获取间隔带的标准参数,进而根据该标准片的测量参数,获取待测量彩膜基板的测量结果,提高了测试效率。
搜索关键词: 彩膜基板 测量 间隔带 标准片 测量参数 存储介质 标准参数 测试效率
【主权项】:
1.一种测量方法,其特征在于,包括:根据每个类型的彩膜基板对应的测量参数,对每个类型的所述彩膜基板中的间隔带的标准片进行测量,获取每个类型的所述彩膜基板的间隔带的标准片的第一高度和第一宽度;根据待测量彩膜基板对应的测量参数,对所述待测量彩膜基板中的间隔带的宽度和高度进行测量,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的第二高度和第二宽度;根据所述第一高度、所述第一宽度、所述第二高度和所述第二宽度,获取所述待测量彩膜基板中的间隔带的测量结果。
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