[发明专利]一种基于反应磁控溅射技术制备高熵合金涂层的方法有效
| 申请号： | 201910017536.7 | 申请日： | 2019-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN109402578B | 公开（公告）日： | 2020-10-09 |
| 发明（设计）人： | 卢金斌;马振武;冯杰;殷振;吴永忠 | 申请（专利权）人： | 苏州科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/35;C23C14/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215009 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种基于反应磁控溅射技术制备高熵合金涂层的方法，首先对钢基体的表面清除油污，然后在磁控溅射设备中离子轰击清洗钢表面，将单质金属粉Cr、Cu、Fe、Ni、Al按比例球磨混合并加压烧结制成高熵合金靶，并将该靶置于磁控溅射设备的直流阴极上，在Ar、N |
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| 搜索关键词： | 一种 基于 反应 磁控溅射 技术 制备 合金 涂层 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基于反应磁控溅射技术制备高熵合金涂层的方法，其特征在于，所述的制作方法包括下述工艺步骤：步骤一、对预涂工件表面进行预处理，即用砂轮或砂纸打磨表面进行除锈、除毛刺和飞边，用丙酮清除表面的油污；步骤二、将单质金属粉Cr、Cu、Fe、Ni、Al按一定比例采用球磨混合工艺进行合金化，再用加压烧结制成高熵合金靶；步骤三、将高熵合金靶置于磁控溅射设备的直流阴极上，关闭磁控溅射设备的真空室，先抽真空并充氩气后进行离子清洗；步骤四、清洗完毕后启动磁控溅射设备的加热器，对预涂工件加热，进行反应磁控溅射；步骤五、反应磁控溅射完毕即得到AlN、CrN增强的AlCrCuFeNi高熵合金涂层。
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