[发明专利]一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽有效
申请号: | 201910021947.3 | 申请日: | 2019-01-10 |
公开(公告)号: | CN109518137B | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 刘思远 | 申请(专利权)人: | 合肥市辉耀真空材料有限责任公司 |
主分类号: | C23C14/26 | 分类号: | C23C14/26;C23C14/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽,包括蒸发槽和覆盖在蒸发槽顶端的盖板,蒸发槽内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极和第二铜柱电极,每组第一铜柱电极和第二铜柱电极之间放置有钼舟,且钼舟间隔分布在第一铜柱电极和第二铜柱电极之间,钼舟两侧分别形成有电极连接头,第一铜柱电极和第二铜柱电极与相应的电极连接头之间,通过放置铜片进行导电连接,每个钼舟上均紧密排列有多块靶材,钼舟下端还垫有上支撑垫块和下支撑垫块,且上支撑垫块和下支撑垫块均为绝缘垫块。本发明提供的蒸发槽组件配合蒸镀真空工艺,能够实现透明反光炫彩膜的加工工艺过程。 | ||
搜索关键词: | 一种 幻彩膜 电镀 工艺 改进 蒸发 | ||
【主权项】:
1.一种幻彩膜电镀工艺的改进式蒸发槽,包括蒸发槽(1)和覆盖在蒸发槽(1)顶端的盖板(4),其特征在于:所述蒸发槽(1)内部两侧壁上均匀等间距的固定安装有两排第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6),每组所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间放置有钼舟(5),且所述钼舟(5)间隔分布在第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)之间,所述钼舟(5)两侧分别形成有电极连接头(7),所述第一铜柱电极(2)和第二铜柱电极(6)与相应的电极连接头(7)之间,通过放置铜片(3)进行导电连接,每个所述钼舟(5)上均紧密排列有多块靶材(11),所述钼舟(5)下端还垫有上支撑垫块(15)和下支撑垫块(16),且所述上支撑垫块(15)和下支撑垫块(16)均为绝缘垫块。
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