[发明专利]一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备有效
| 申请号： | 201910031582.2 | 申请日： | 2019-01-14 |
| 公开（公告）号： | CN109772273B | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 徐斐;叶泰;袁敏;曹慧;于劲松 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | B01J20/26 | 分类号： | B01J20/26;B01J20/30 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 王婧 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括：在双蒸水中溶解模板离子的无机盐，随后加入核糖核苷酸，450‑550rpm搅拌1～2h，在上述溶液中加入氨基苯硼酸，使用50‑100mmol/L氢氧化钠调节溶液pH至8‑10，通氮除氧后，加入纳米二氧化硅和0.05～0.2mol/L过硫酸铵溶液，氮吹20～40min，持续磁力搅拌反应10～14h，待反应结束后，离心收集产物，使用50‑100mmol/L的含巯基化合物洗脱模板离子，再使用双蒸水洗涤，离心收集产物，60～80℃烘干得到基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物。本发明制备过程中选择对金属离子有良好亲和力的核糖核苷酸作为功能单体，通过印迹单体和印迹空腔的协同作用，能够进一步提高离子印迹的选择性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 核糖 核苷酸 功能 单体 离子 印迹 聚合物 制备 | ||
【主权项】：
1.一种基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物的制备方法，其特征在于，包括：在双蒸水中溶解模板离子的无机盐，随后加入核糖核苷酸，450‑550rpm搅拌1～2h，在上述溶液中加入氨基苯硼酸，使用50‑100mmol/L氢氧化钠调节溶液pH至8‑10，通氮除氧后，加入纳米二氧化硅和0.05～0.2mol/L过硫酸铵溶液，氮吹20～40min，持续磁力搅拌反应10～14h，待反应结束后，离心收集产物，使用50‑100mmol/L的含巯基化合物洗脱模板离子，再使用双蒸水洗涤，离心收集产物，60～80℃烘干得到基于核糖核苷酸功能单体的离子印迹聚合物。
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