[发明专利]光学邻近修正模型、光学邻近修正方法有效

专利信息
申请号: 201910041423.0 申请日: 2019-01-16
公开(公告)号: CN111443567B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 杜杳隽 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 代理人: 高静;李丽
地址: 201203 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 一种光学邻近修正模型、光学邻近修正方法,所述光学邻近修正模型含有曲率校正项,所述曲率校正项适于表征物理晶圆上的图形轮廓上各位置在应力作用下的曲率变化量。本发明所述曲率校正项适于表征物理晶圆上的图形轮廓上各位置在应力作用下的曲率变化量,因此,通过所述OPC模型获得模拟图形后,即可在模拟图形中显示曲率异常的现象,以提高通过光学邻近修正模型所获得的模拟图形与物理晶圆上实际图形的匹配度,相应的,在对晶圆版图进行光学邻近修正时,能够根据模拟图形轮廓上各位置的实际曲率情况进行相应修正,从而提高了光学邻近修正的精准度。
搜索关键词: 光学 邻近 修正 模型 方法
【主权项】:
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