[发明专利]光罩清洗系统及其方法在审
| 申请号： | 201910042127.2 | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN110727173A | 公开（公告）日： | 2020-01-24 |
| 发明（设计）人： | 颜忠逸;赖美足;林振宏;柯建州;叶宥成;林泰翔 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/82 | 分类号： | G03F1/82 |
| 代理公司： | 11006 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种光罩清洗系统及其方法。光罩清洗方法包括以下方法。打开一舱，舱中具有光罩。通过端效器夹持光罩。将端效器从已打开的舱移动至气体出口所朝向的目的地。使气体自气体出口朝向经夹持光罩排出，以及当端效器在气体出口所朝向的目的地处时使端效器相对于水平面旋转。 | ||
| 搜索关键词： | 光罩 气体出口 清洗系统 夹持 排出 器夹 清洗 移动 | ||
【主权项】：
1.一种光罩清洗方法，其特征在于，包含：/n打开一舱(pod)，该舱中具有一光罩；/n通过一端效器(end effector)夹持该光罩；/n将该端效器从已打开的该舱移动至一气体出口所朝向的一目的地；/n使一气体自该气体出口朝向经夹持的该光罩排出；以及/n当该端效器在该气体出口所朝向的该目的地时，使该端效器相对于一水平面旋转。/n
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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