[发明专利]一种等离子体刻蚀装置及其扩散装置在审
| 申请号： | 201910044200.X | 申请日： | 2019-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN109545645A | 公开（公告）日： | 2019-03-29 |
| 发明（设计）人： | 周腾;邱克强;刘正坤;徐向东;洪义麟;付绍军 | 申请（专利权）人： | 中国科学技术大学 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐丽;李海建 |
| 地址： | 230026 安*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种等离子体扩散装置，其特征在于，包括：中空的端口放大装置(1)，所述端口放大装置(1)的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，所述端口放大装置(1)的进口的面积小于出口的面积；栅栏(5)，所述栅栏(5)安装在所述端口放大装置(1)的出口端，且与所述出口相对。通过设置端口放大装置可在一定程度上增大小型等离子体发生器形成的等离子体区域。本发明还公开了一种具有上述等离子体扩散装置的等离子体刻蚀装置。 | ||
| 搜索关键词： | 放大装置 等离子体刻蚀装置 等离子体扩散 栅栏 等离子体发生器 等离子体区域 等离子体源 扩散装置 密封连接 出口端 进口端 输出端 中空的 出口 进口 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体扩散装置，其特征在于，包括：中空的端口放大装置(1)，所述端口放大装置(1)的进口端用于与等离子体源输出端密封连接，所述端口放大装置(1)的进口的面积小于出口的面积；栅栏(5)，所述栅栏(5)安装在所述端口放大装置(1)的出口端，且与所述出口相对。
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