[发明专利]阵列基板在审
| 申请号： | 201910086223.7 | 申请日： | 2019-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN109683412A | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 李迁 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本申请实施例的阵列基板，通过采用调节介质层来降低栅极金属层与电极层之间的寄生电容，从而避免边缘电场及周围环境的影响而出现暗纹现象，进而提高显示质量。 | ||
| 搜索关键词： | 栅极金属层 边缘电场 寄生电容 阵列基板 电极层 介质层 暗纹 申请 | ||
【主权项】：
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；一栅极金属层，所述栅极金属层设置在所述基板上；一层间介质层，所述层间介质层设置在所述基板以及所述栅极金属层上；一电极层，所述电极层设置在所述层间介质层上；一配向层，所述配向层设置在所述电极层上；以及一调节介质层，所述调节介质层设置在所述栅极金属层以及所述配向层之间的区域并与所述层间介质层以及所述电极层相连，所述调节介质层用于降低所述栅极金属层与所述电极层之间的寄生电容。
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