[发明专利]图案描绘装置、图案描绘方法、以及元件制造方法有效
| 申请号： | 201910096369.X | 申请日： | 2017-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN110031968B | 公开（公告）日： | 2022-03-15 |
| 发明（设计）人： | 鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;加藤正纪 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G02B26/12 | 分类号： | G02B26/12;G02B26/10;G03F7/20;G03F9/00;G03G15/043;H05K3/00 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 孙乳笋;王涛 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种曝光装置(EX)，其一面根据图案信息对来自光源装置(LS)的光束(LBn)进行强度调变，一面将光束(LBn)投射至基板(P)上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于基板(P)上描绘图案，且具备：扫描单元(Un)，其具有光束扫描部，该光束扫描部包含为了实现光束(LBn)的扫描而使光束(LBn)偏向的多面镜(PM)，该光检测器(DTn)对光束(LBn)被投射至基板(P)时产生的反射光进行光电检测；电光学器件(36)，其以于形成于基板(P)上的第1图案(PT1)的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案(PT2)的至少一部分的方式，根据图案信息而控制光束(LBn)的强度调变；及测量部(116)，其于在基板(P)上描绘第2图案(PT2)的期间，根据自光检测器(DTn)输出的检测信号(PSn)而测量第1图案(PT1)与第2图案(PT2)的相对的位置关系。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 描绘 装置 方法 以及 元件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种图案描绘装置，其一面根据图案信息对来自光源装置的光束进行强度调变，一面将上述光束投射至基板上并沿主扫描方向进行扫描，藉此于上述基板上描绘图案，且具备：描绘单元，其具有光束扫描部及反射光检测部，所述光束扫描部包含为了实现上述光束的向上述主扫描方向的扫描而使来自上述光源装置的上述光束偏向的偏向构件，上述反射光检测部透过上述光束扫描部的上述偏向构件而对上述光束被投射至上述基板时产生的反射光进行光电检测；光束强度调变部，其以于利用既定材料预先形成于上述基板上的第1图案的至少一部分，重迭地描绘应重新描绘的第2图案的至少一部分的方式，根据上述图案信息而控制上述光束的强度调变；及测量部，其于在上述基板上描绘上述第2图案的期间，根据自上述反射光检测部输出的检测信号而测量上述第1图案与上述第2图案的相对的位置关系。
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