[发明专利]一种超薄二硒化钼纳米片的液相合成方法在审
申请号: | 201910109497.3 | 申请日: | 2019-02-03 |
公开(公告)号: | CN109626340A | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 杨晴;周慧楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学技术大学 |
主分类号: | C01B19/04 | 分类号: | C01B19/04;B82Y40/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 赵青朵 |
地址: | 230026 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供了一种超薄二硒化钼纳米片的液相合成方法,包括将钼源、硒源和有机胺混合,除杂,得到混合液;将混合液在240~300℃下反应20~60min,得到超薄二硒化钼纳米片;钼源选自钼酸铵、钼酸钠、磷钼酸铵、三氧化钼、乙酰丙酮氧钼和乙酸钼中的一种或多种;硒源选自硒粉、硒甲硫氨酸和二苄基二硒中的一种或多种。本发明通过选择特定种类的前驱源(钼源和硒源)和溶剂有机胺,促进铺展形成大面积且形貌较均匀平整的超薄二硒化钼纳米片;原料为常见原料,条件温和,且方法简单;该方法制备周期短,产率高。纳米片为单层及几层形貌,从光电子能谱图、高角环形暗场像可以看出二硒化钼是1T相与2H相并存,有利于其导电性的提高。 | ||
搜索关键词: | 二硒化钼 纳米片 硒源 钼源 形貌 液相合成 混合液 乙酸 乙酰丙酮氧钼 导电性 光电子能谱 溶剂有机胺 前驱 甲硫氨酸 磷钼酸铵 三氧化钼 制备周期 暗场像 有机胺 钼酸钠 钼酸铵 产率 除杂 单层 高角 硒粉 苄基 铺展 平整 | ||
【主权项】:
1.一种超薄二硒化钼纳米片的液相合成方法,其特征在于,包括如下步骤:将钼源、硒源和有机胺混合,除杂,得到混合液;将所述混合液在240~300℃下反应20~60min,得到超薄二硒化钼纳米片;所述钼源选自钼酸铵、钼酸钠、磷钼酸铵、三氧化钼、乙酰丙酮氧钼和乙酸钼中的一种或多种;所述硒源选自硒粉、硒甲硫氨酸和二苄基二硒中的一种或多种。
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