[发明专利]一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法及装置有效
| 申请号： | 201910120122.7 | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN109683447B | 公开（公告）日： | 2021-01-22 |
| 发明（设计）人： | 高澎铮;韦亚一;张利斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 王宝筠 |
| 地址： | 100029 北京市朝阳*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请实施例公开了一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法及装置，包括获取初始掩模图形，根据初始掩模图形的几何特征，得到与初始掩模图形相关的至少一个测试图形，在目标光源库中查找与测试图形对应的测试光源，其中，目标光源库包括测试图形和测试光源的对应关系，测试光源为与测试图形对应的经过优化的光源，根据查找到的测试光源的测试参数，可以确定初始光源的初始参数。相比于现有技术中将环形光源作为初始光源，本申请实施例中根据测试光源的测试参数确定的初始光源，更加接近初始掩模图形对应优化得到的最佳光源，因此，基于确定出的初始光源，可以减少光源掩模协同优化方法的迭代次数，提高优化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光源 协同 优化 初始 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光源掩模协同优化初始光源的确定方法，其特征在于，所述方法包括：获取初始掩模图形；根据所述初始掩模图形的几何特征，得到与所述初始掩模图形相关的至少一个测试图形；在目标光源库中查找与所述测试图形对应的测试光源，所述测试光源为与所述测试图形对应的经过优化的光源；根据所述测试光源的光源参数，确定初始光源的光源参数。
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