[发明专利]一种阵列基板、其制备方法及显示装置在审

专利信息
申请号: 201910121524.9 申请日: 2019-02-19
公开(公告)号: CN109712996A 公开(公告)日: 2019-05-03
发明(设计)人: 刘弘;王凤国;方业周;武新国;赵晶;郭志轩;马波;李凯;田亮;王海东 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1345
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 郭润湘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种阵列基板、其制备方法及显示装置,由于上述周边区域的多条金属走线一般围绕透光区域进行设置,并且由于各金属走线之间的布线较密,在进行光照时容易发生反射,并产生光的相干衍射现象,造成周边区域的明暗相间的条纹不良。因此,本发明通过在上述周边区域的金属走线与衬底基板之间设置在衬底基板上的正投影覆盖金属走线的第一遮光部,该第一遮光部能够遮挡光源照射至各金属走线,从而可以解决周边区域出现明暗相间的条纹不良的问题,提高显示效果。
搜索关键词: 金属走线 周边区域 衬底基板 明暗相间 显示装置 阵列基板 遮光部 条纹 制备 光源照射 透光区域 显示效果 正投影 相干 布线 衍射 反射 遮挡 光照 覆盖
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括显示区域,所述显示区域具有图像获取区域,所述图像获取区域包括透光区域和包围所述透光区域的周边区域;其中,所述周边区域包括位于衬底基板上的多条金属走线,以及位于所述金属走线与所述衬底基板之间的第一遮光部;所述金属走线在所述衬底基板上的正投影被所述第一遮光部在所述衬底基板上的正投影覆盖。
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