[发明专利]一种均匀出光扩散板结构及其制造方法在审
| 申请号： | 201910132065.4 | 申请日： | 2019-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN109655949A | 公开（公告）日： | 2019-04-19 |
| 发明（设计）人： | 王书昶;孙智江;吉爱华 | 申请（专利权）人： | 海迪科（南通）光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/02 | 分类号： | G02B5/02;F21V5/08 |
| 代理公司： | 北京一格知识产权代理事务所(普通合伙) 11316 | 代理人： | 滑春生 |
| 地址： | 226500 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种均匀出光扩散板结构及其制造方法，包括光源点阵，具有至少一个主出光面；均匀化层，用于对从主出光面射出的光线进行光学扩散，所述均匀化层设置在所述主出光面出光方向的延伸方向上；调节载体，所述调节载体在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面与均匀化层；亮度调节图形，所述亮度调节图形以非全覆盖的形式设置在调节载体表面，该亮度调节图形为：以光源出光面上的由光强分布不同而形成的二维亮暗图形为投影物，投影到调节载体表面所形成的图形或反像图形；亮度调节图形在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面表面与均匀化层的下表面。本发明的优点在于：本发明能够保证扩散板结构出光均匀一致。 | ||
| 搜索关键词： | 主出光面 均匀化层 亮度调节 光源 扩散板结构 点阵 均匀出光 载体表面 出光均匀 光强分布 光学扩散 全覆盖 投影物 下表面 二维 反像 射出 投影 制造 延伸 保证 | ||
【主权项】：
1.一种均匀出光扩散板结构，其特征在于：包括光源点阵，具有至少一个主出光面；均匀化层，用于对从主出光面射出的光线进行光学扩散，所述均匀化层设置在所述主出光面出光方向的延伸方向上；调节载体，所述调节载体在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面与均匀化层；亮度调节图形，所述亮度调节图形以非全覆盖的形式设置在调节载体表面，该亮度调节图形为：以光源出光面上的由光强分布不同而形成的二维亮暗图形为投影物，投影到调节载体表面所形成的图形或反像图形；亮度调节图形在主出光面出光方向上不超过所述光源点阵主出光面表面与均匀化层的下表面。
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