[发明专利]基于雪崩光电二极管的光检测传感器及其制备方法有效
申请号: | 201910133658.2 | 申请日: | 2019-02-22 |
公开(公告)号: | CN109742176B | 公开(公告)日: | 2020-08-28 |
发明(设计)人: | 牛菁;彭锦涛;周婷婷;牛亚男;孙双;张方振 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18;G01J1/42 |
代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 李弘 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于雪崩光电二极管的光检测传感器及其制备方法,其中所述光检测传感器包括:衬底基板、位于所述衬底基板上的雪崩光电二极管APD;其中,所述雪崩光电二极管包括水平的N+型区、P型区、I型区、P+型区。应用本发明可以减薄光检测传感器的整体厚度,且制造工艺简单,可以避免因叠层工艺引起的高概率产品不良。 | ||
搜索关键词: | 基于 雪崩 光电二极管 检测 传感器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于雪崩光电二极管的光检测传感器,包括:衬底基板、位于所述衬底基板上的雪崩光电二极管APD;其中,所述雪崩光电二极管包括水平的N+型区、P型区、I型区、P+型区。
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