[发明专利]基于雪崩光电二极管的光检测传感器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201910133658.2 申请日: 2019-02-22
公开(公告)号: CN109742176B 公开(公告)日: 2020-08-28
发明(设计)人: 牛菁;彭锦涛;周婷婷;牛亚男;孙双;张方振 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107;H01L31/0352;H01L31/18;G01J1/42
代理公司: 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 代理人: 李弘
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种基于雪崩光电二极管的光检测传感器及其制备方法,其中所述光检测传感器包括:衬底基板、位于所述衬底基板上的雪崩光电二极管APD;其中,所述雪崩光电二极管包括水平的N+型区、P型区、I型区、P+型区。应用本发明可以减薄光检测传感器的整体厚度,且制造工艺简单,可以避免因叠层工艺引起的高概率产品不良。
搜索关键词: 基于 雪崩 光电二极管 检测 传感器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于雪崩光电二极管的光检测传感器,包括:衬底基板、位于所述衬底基板上的雪崩光电二极管APD;其中,所述雪崩光电二极管包括水平的N+型区、P型区、I型区、P+型区。
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