[发明专利]光刻回馈系统及方法有效
| 申请号： | 201910136279.9 | 申请日： | 2019-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN111580345B | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 请求不公布姓名 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 王华英 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种光刻回馈系统和方法，所述光刻回馈方法包括，提供基底历史数据，至少包括预处理批次基底的前层机台状态；提供光刻机台历史数据，至少包括与所述预处理批次基底的前层机台状态相对应当层曝光显影后的历史量测数据；对所述预处理批次基底的当层进行曝光显影时，从所述基底历史数据中获取所述预处理批次基底的前层机台状态，从所述光刻机台历史数据中调取与所述预处理批次基底的前层机台状态相对应的当层曝光显影后的历史量测数据来校正光刻参数。利用本发明，对当层进行曝光显影时，可针对前层光刻机台状态不同给予自动分流，以对当层的光刻参数进行不同的回馈补偿，降低返工率，提高产品良率。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 回馈 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于长鑫存储技术有限公司，未经长鑫存储技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201910136279.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
